《表1 处理1中制绒硅片的少子寿命和相对应的Voc-imp》
图2给出金字塔侧面的SEM图。采用了CP133化学抛光液对前述清洗制绒后的硅片进行各向同性腐蚀,以使金字塔谷底钝化。从图2可以看到,金字塔谷底明显钝化,由“V”型[图2(a)]变成了“U”型[图2(b)]。这种形状的谷底利于非晶硅薄膜均匀沉积,但不易于薄膜外延生长[14-15]。研究中发现,抛光液的温度对腐蚀效果有较大的影响。当抛光液的温度在3 0℃以下时,抛光并经非晶硅钝化后(上述处理简称为处理1),硅片少子寿命如表1所示,其中Voc-imp表示暗含开路电压。
图表编号 | XD0034844700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.03.25 |
作者 | 姜元建、张晓丹、赵颖 |
绘制单位 | 菏泽学院物理与电子工程学院、南开大学光电子薄膜器件与技术研究所光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室、南开大学光电子薄膜器件与技术研究所光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室 |
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