《表1 Ti Al ON涂层沉积过程的气体流量和工作压力》

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《氧气流量对电弧离子镀TiAlON涂层结构和性能的影响》

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沉积过程在5.0×10–3 Pa的背底压力下进行，沉积温度约为430℃。实验采用四个Al70Ti30靶，以氩气和氧气的混合气体作为反应气体，氧气流量为30～120 m L/min。表1列出了沉积过程中的气体流量和总气体压力。靶的工作功率和基体偏压分别为2.6 k W和–60 V，沉积时间为90 min，基体安装在工件架上并以2 r/min的速度旋转。