《表2 Ti Al ON涂层的归一化成分（EDS)》

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《氧气流量对电弧离子镀TiAlON涂层结构和性能的影响》

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沉积的Ti Al ON涂层的成分通过能谱仪（EDS）进行分析，结果列于表2，可以看出所沉积的涂层富含氧气。随着氧气流量的增加，沉积到涂层中的O含量增加，而Ti和Al含量则略有下降。仅在氧气流量为30 m L/min的涂层中检测到N元素。为了确定是否将N元素掺入到了涂层中，使用X射线光电子能谱（XPS）研究了在30、60、90、120 m L/min的氧气流下沉积Ti Al ON涂层的化学成分和成键结构，结果如图2所示。XPS结果表明，N元素掺入到了涂层中，但是N含量低，超出了EDS的检测极限，无法被检测到。