《表3 不同N2流量下Ni Ti C涂层的厚度和电阻率分布》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《N_2流量对磁控溅射制备NiTiC电阻涂层结构和电性能的影响》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

表3是不同N2流量下制得的Ni Ti C涂层的厚度和电阻率参数测试结果。结果显示，提高N2流量后，Ni Ti C涂层发生了厚度的明显起伏。随着N2流量的提高，涂层厚度发生了先增大再降低，电阻率则呈现不断增大的变化趋势。这是由于N原子增加会提高涂层中非晶的成分，使得无序原子排布能力增强，导致涂层的电阻率增加。同时Ni Ti C涂层中N元素还可能会与C和Ti形成中间相，造成Ni Ti C涂层中载流子浓度降低，进而导致导电性降低。