《半导体材料的分析》

目录1

第一章 高纯硅及其化合物的分析1

§1-1 纯硅和二氧化硅中微量杂质的化学光谱测定1

§1-2 高纯硅、二氧化硅、石英、四氯化硅、三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定3

§1-3 三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定7

§1-4 三氯硅烷中痕量镉、铟、铅、铜、铋的汞齐极谱测定10

§1-5 三氯硅烷和四氯化硅中痕量硼的化学光谱测定（Ⅰ）12

§1-6 三氯硅烷中痕量硼的化学光谱测定（Ⅱ）15

§1-7 三氯硅烷含量的测定17

第二章 高纯锗和二氧化锗的分析21

§2-1 二氧化锗中痕量杂质的化学光谱测定21

§2-2 二氧化锗中痕量硼的化学光谱测定25

§2-3 二氧化锗中微量硼的比色测定28

§2-4 二氧化锗中微量硅的测定30

Ⅰ．目视比色法30

Ⅱ．萃取光度法31

§2-5 二氧化锗中痕量砷的测定33

§2-6 锗及二氧化锗中痕量锑的测定35

§2-7 二氧化锗中痕量钠的测定37

第三章 高纯镓、砷及其化合物的分析39

§3-1 高纯镓中痕量杂质的化学光谱测定39

§3-2 高纯镓中痕量金的比色测定41

§3-3 高纯镓中痕量铁的比色测定43

§3-4 高纯砷及其化合物中痕量杂质的化学光谱测定44

§3-5 高纯砷中痕量杂质的化学光谱测定47

§3-6 高纯砷中痕量锑的比色测定50

§3-7 高纯砷中痕量硒的比色测定51

§3-8 高纯砷中硫的散射浊度法测定53

§3-9 高纯砷和三氯化砷中痕量碲的示波极谱测定54

§3-10 高纯砷和氧化砷中痕量锡的化学光谱测定56

§3-11 高纯镓、砷和氧化砷中痕量硫的比色测定58

§3-12 高纯镓、砷和氧化砷中痕量汞的化学光谱测定60

§3-13 高纯镓、砷和砷化镓中痕量硅的比色测定63

§3-14 砷化镓中痕量杂质的化学光谱测定66

§3-15 砷化镓中碲的方波极谱测定68

第四章 高纯铟的分析70

§4-1 高纯铟中痕量杂质的化学光谱测定70

§4-2 高纯铟中锑、镓、铊、金、铁的化学光谱测定72

Ⅰ．高纯石墨中微量杂质的化学光谱测定76

附录1 高纯石墨的分析76

Ⅱ．高纯石墨中痕量硼的光谱测定78

Ⅲ．高纯石墨中痕量硼的化学光谱测定80

附录2 几种试剂的提纯84

Ⅰ．水84

Ⅱ．盐酸84

Ⅲ．硝酸86

Ⅳ．氢氟酸86

Ⅴ．氢溴酸87

Ⅵ．高氯酸87

Ⅶ．氢氧化铵88

Ⅷ．溴89

Ⅸ．异丙醚89