《大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 下》
作者 | 编者 |
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出版 | 未查询到或未知 |
参考页数 | 63 |
出版时间 | 1984(求助前请核对) 目录预览 |
ISBN号 | 无 — 求助条款 |
PDF编号 | 815486678(仅供预览,未存储实际文件) |
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综述1
国外集成电路专用设备的发展1
光学曝光的潜力与前景6
光刻设备10
分步重复投影光刻物镜设计10
微细光刻照明系统汞灯“弧闪”的初步研究16
光刻机光学系统的质量要求和象质检验22
投影光刻机自动调焦调平技术25
光刻设备的使用以及新设备的调机和工艺试验31
测试仪器36
掩模缺陷检测光学方法36
自动掩模检查系统中微细缺陷探测的光学问题40
双频激光测量系统在LSI光刻工艺设备中的应用45
采用负载观测器的定位控制系统51
其它54
静电在集成电路生产中的危害及消除54
文摘57
来信照登59
附:JK—1型接近式光刻机院级鉴定意见等60
建议书63
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高度相关资料
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- 大规模集成电路设计导论
- 1990 北京:科学出版社
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- 模拟集成电路设计:电流模法
- 1996
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- 学术研讨会论文集 下
- 1992
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- 大规模集成电路测试
- 清华大学微电子研究所
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- 中德轧技术交流研讨会 论文集
- 中国金属学会
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- 学术交流会论文集
- 1998
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- 热电厂辅助机械与设备学术交流会论文选集
- 1994 中国电机工程学会热电专业委员会
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- 企业财务会计
- 1997 北京:航空工业出版社
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- 连横学术思想暨学术成就研讨会论文选
- 1994 福州:海峡文艺出版社
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- 超大规模集成电路系统设计
- 1987 天津:南开大学出版社
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