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大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 下 1984 PDF电子版封面

综述1

国外集成电路专用设备的发展1

光学曝光的潜力与前景6

光刻设备10

分步重复投影光刻物镜设计10

微细光刻照明系统汞灯“弧闪”的初步研究16

光刻机光学系统的质量要求和象质检验22

投影光刻机自动调焦调平技术25

光刻设备的使用以及新设备的调机和工艺试验31

测试仪器36

掩模缺陷检测光学方法36

自动掩模检查系统中微细缺陷探测的光学问题40

双频激光测量系统在LSI光刻工艺设备中的应用45

采用负载观测器的定位控制系统51

其它54

静电在集成电路生产中的危害及消除54

文摘57

来信照登59

附：JK—1型接近式光刻机院级鉴定意见等60

建议书63

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