《大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 上》

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大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 上 1984 PDF电子版封面

光刻设备1

1．光学投影微细加工系统焦面附近成象结构的实验研究1

2．光电自动调焦10

3．KHA75—1型接近/接触式光刻机研制概要12

4．光刻机光学系统的现状和发展20

测试仪器28

光学反射法在线监控的应用28

α台阶测试仪32

其他35

微型机在ZSH—1型自动砂轮划片机的应用35

集成电路专用设备ZCR—1型半自动超声热压引线焊接机44

负型抗蚀剂——1，3DCPA的X射线曝光性能51

远紫外光刻及其光刻胶概况55

远紫外汞氙灯59

我国第一条φ50mm半自动光刻线64

XQC—1型检查显微镜通过鉴定66

半自动光刻工艺线通过鉴定67

原子吸收分光光度计附件XP—31氢化物发生器XP—32石墨炉自动进样器通过鉴定68

1KW远紫外汞氙灯通过技术鉴定69

第三届全国“三束”及超精细工艺技术学术年会征文启事70

机械工业部专用设备会议闭幕71

大规模集成电路专用设备研究讨论暨学术交流会即将在杭州开幕72

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