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目 录2

一、单晶与单晶片加工设备类2

单晶控制设备2

TDR-60型 单晶炉2

TDR-40型 单晶炉7

L4316Ⅱ-1/ZF型 高压单晶炉11

切片设备14

QP-3型 立式内圆切片机14

J50422A/YN型 立式内圆切片机16

J5075ⅡB/YN型 立式内圆切片机19

J5040-1型 卧式内圆切片机22

研磨设备25

J58670/ZF型 大直径研磨机25

DM9410型 双面磨片机28

C6268-Ⅱ/YJ型 四动精密研磨机31

C65820/YJ型 单面减薄机34

抛光设备37

J5875/YN型 二氧化硅乳液抛光机37

DM9610型 二氧化硅乳液抛光机40

C63305/YJ型 二氧化硅乳液抛光机43

H7875-2型 二氧化硅乳液抛光机45

C6377I/YJ型 掩膜版抛光机48

其它设备51

J58100/YN型 硅片倒角机51

J3575/YN型 硅片粘片机54

C61305/YJ型 硅片粘片机57

制版设备63

H94-21/ZM型 自动刻(绘)图机63

二、制版、光刻、涂胶、清洗设备类63

PB系列 数控平面绘图机66

HB-71GJ型 中型数控绘图机69

TSH-1型 图型数字化仪72

H94-25/ZM型 感应式图形数字化仪73

GS-335型 宽幅初缩照相机76

H93-4/YL型 高精度缩微重复照相机79

JS-3型 精缩照相机82

H93-2/YL型 光栅定位四头分步重复照相机85

ZFJ-1-5型 分步重复精缩机88

ZLJS-75型 分步重复精缩机91

FB-1型 精密接触式翻版机94

YF-3型 掩膜版复印机97

H94-4/YL型 掩膜版复印机100

TF-KS1型 多功能图形发生器103

25HZ型 图形发生器106

TF-2型 图形发生器108

光刻设备111

DB-3型 电子束曝光机111

JKG-2A型 光刻机114

GK-4型 半自动光刻机117

KHA75-1型 半自动接近/接触式光刻机119

H94-19型 全自动曝光机122

H94-18型 半自动曝光机125

H94-17型 φ100mm大面积手动曝光机128

1Q型 远紫外光刻机132

4Q型 1:1投影光刻机135

ZGK-50型 投影光刻机137

JK-1型 半自动接近/接触式光刻机141

H9450/ZK型;H9450A/ZK型 光刻机144

JT-2型 净化涂胶台147

匀胶、显影设备147

H52-1/YN型 超净匀胶台150

GK100-T/X型 净化涂胶/显影机153

H52-3/ZF型 自动匀胶机156

H95-3/ZF型 自动显影机158

L36180/ZF型 远红外烘干炉161

SW-CJ-9B型 匀胶(洁净工作)台164

刻蚀、去胶设备165

H46100型 离子束刻蚀机165

LK-1型 离子束刻蚀机168

LK-2型 离子束刻蚀机172

LSK-500型 离子束刻蚀机175

H67-2/ZM型 平板式等离子刻蚀机178

PBKS-1型 平板式等离子刻蚀机181

DK-P200型 平板式等离子刻蚀机184

H67-1/ZM型 等离子刻蚀机187

DLKS-1型 等离子刻蚀机190

H69-1/ZM型 等离子去胶机193

GP02-QJ4型 等离子去胶设备196

H60-1/ZF型 高压水擦片机199

清洗设备199

JCJ-1型 净化擦片机202

GCJ-75-1型 高压冲洗机203

82S01型 硅片清洗机204

JFQ-75型 硅片清洗机组207

BCQ-3型 超声波清洗机211

三、外延、化学气相沉积、氧化、扩散及离子注入设备类217

外延设备217

L4114Ⅱ-1A/ZM型 微控外延炉217

YW-Ⅰ型 液相外延炉221

YW-Ⅱ型 液相外延炉224

化学气相沉积设备227

L41950-1/ZM型 低压化学气相淀积设备227

DD-500型 等离子淀积台231

P-1型 低压等离子增强化学气相淀积设备234

L-3型 低压化学气相淀积设备236

LPCVD-1B型 低压化学气相淀积设备239

H20-1型 氮化硅低温淀积台242

DD-P250型 氮化硅低温淀积台245

FD-120型 低压化学气相淀积设备248

FD-200型 等离子CVD设备250

FD-130型,FD-131型 低压化学气相淀积设备252

氧化扩散设备254

CKL-1A型 全程序控制管式炉254

MCDS Ⅰ 20-1型 微型计算机控制全功能扩散系统258

L4513Ⅱ-12/ZM型 高温扩散炉261

L4513Ⅱ-32/RZQ型 高温扩散炉264

L4512ⅡB/YN型 高温扩散炉267

GK-5型 高温扩散炉270

L4513Ⅱ-22/RZQ型 高温扩散炉273

GK-4C型 高温扩散炉276

L4513Ⅱ-9/ZM型 高温扩散炉279

L4511Ⅱ-32/RZQ型 低温扩散炉282

D07-2/ZM型 质量流量控制器286

离子注入及电子束退火设备287

LC-3型425keV离子注入机287

J59200B/ZK型 中能离子注入机290

LC-2A型 200keV离子注入机294

J59200/Z M型 200keV离子注入机297

DT-1型 电子束退火机300

H44500-13型 无油超高真空镀膜机304

四、蒸发及溅射设备类304

蒸发镀膜设备304

H44500-1型 无油超高真空镀膜机307

CWD-500型 全无油超高真空镀膜机310

H44500-5型 超高真空镀膜机313

H44700型 箱式真空镀膜机316

KZD-700型 电子束镀膜机319

DMF-700型 电子束镀膜机322

H44500-12型 四坩埚电子束镀膜机325

H44500-11型 三坩埚电子束镀膜机328

DMP-450型 电子束镀膜机331

H44500C型 真空镀膜机334

溅射设备337

H46500-3型 双室磁控溅射设备337

JCK-500型 磁控溅射台340

PMS-500型 磁控溅射台343

H44500-9型 磁控溅射台345

H46500-1型 回旋靶磁控溅射台347

H46500型 射频溅射台350

JS-450A型,JS-450D型 射频溅射设备353

D21-6/ZM型 扩展电阻测试仪358

五、检测设备及仪器类358

材料参数检测仪器358

D41-6/ZM型 半导体杂质浓度分布测试仪359

D22-12/ZM型 电荷积分仪361

D41-7/ZM型 非接触测厚仪363

D41-4型 四探针测试仪365

STZ-1型 数字式方形四探针仪367

掩膜检测仪器369

JZQ-1型 平面度测试仪369

PJ-1型 平整度检查仪371

6Q型 数字式测量显微镜372

7Q型 比较测量显微镜374

8Q型 干涉相衬显微镜375

中间测试仪器376

TZ-3A型 自动多探针376

TZ-3型 自动多探针378

TZ-4型 自动多探针380

D44-8/ZM型 多头半自动探针中测台381

(MC-6800微型机控制)382

D47-3/Z M型TTL电路测试系统382

成品测试设备382

D47-4/Z M型 C MOS集成电路测试台384

(JS-10A计算机控制)384

D47-2/Z M型TTL中规模集成电路测试台386

(JS-10A计算机控制)386

其它测试仪器388

D9113Ⅱ/ZM型 温度分布曲线测量仪388

P18-1/ZM型 导线可焊性测试仪390

SW-CJ-1B型 通用洁净工作台394

洁净工作台394

六、净化设备类394

TC系列 通用洁净工作台396

TS系列 通用洁净工作台399

CJ-1B型 通用洁净工作台400

JJT-1型,JJT-2型 通用双人洁净工作台401

SZX-ZP-1型 通用洁净工作台404

SW-CJ-2A型,SW-CJ-2B型 扩散洁净工作台405

CJ-5A型 扩散洁净工作台407

SZX-KS型 扩散洁净工作台408

SZX-TJ型 匀胶洁净工作台409

SW-CJ-4B型 清洗洁净工作台410

CJ-6型 清洗洁净工作台411

SZX-QX型 清洗洁净工作台412

SW-CJ-7A型 光刻洁净工作台413

CJ-4型 光刻洁净工作台414

SZX-GK型 光刻洁净工作台415

JJG-1型 洁净储存柜416

层流罩418

TTZ型 吊式洁净层流罩418

JJQ-1型 吊式单元洁净层流罩419

JJQ-3型 立式单元洁净层流罩420

空气净化单元421

SW-CJ-5B型 空气净化单元421

JJQ-2型 空气净化单元422

SZX-DY型 空气净化单元423

风淋室424

FL-1型 风淋通道424

FL-3型 风淋室425

FL-2型 风淋室426

TH-CL-902型 风淋室428

JZS型,JZC型 系列洁净室429

洁净室429

CJK型,SJK型 系列洁净室430

JS-CZ型 系列洁净室(铝型材结构)434

JJS-4型,JJS-8型 洁净室436

JJS-20型 洁净室438

CLJ型 系列洁净室440

SZX-ZP型 系列洁净室442

TH-CSH-A型,TH-CSH-B型 系列洁净室443

Y09-3/ZM型 尘埃粒子计数器444

尘埃粒子计数器444

Y09-4型 尘埃粒子计数器446

Y09-1型 尘埃粒子计数器448

超纯水终端处理装置450

CS-Z0.5型 超纯水终端后处理装置450

SZ-1型 超纯水终端后处理装置453

CL-300系列 超滤装置455

超纯气处理装置457

DC-4型 氮气纯化装置457

YC-1B型 氧气纯化装置460

B-1610/ZM型 大流量氢气纯化装置463

MQC-5型 氢气纯化装置465

CH-5型 氢气纯化装置467

B162/ZM型 氢气纯化装置469

Y79-1/ZM型 直读式露点仪471

ZDC20-13/V型 氮气终端净化装置472

QCZ5-5/V型 氢气终端净化装置473

划片、粘结等设备476

J51120/ZF型 自动划片机476

七、后部工艺设备类476

J51100/ZF型 砂轮划片机479

XD-1型 选择(局部)镀金机483

T66-1/ZF型 芯片粘接机485

超声键合、热压焊设备488

P10Ⅲ5/ZF型 无尾丝超声键合机488

P10-1/ZF型 超声金丝球焊机491

P105-1型 超声金丝球焊机494

WKQH型 金丝球焊机496

JWYH-1型 微型电路热压球焊机499

GPJ3-100型 高频介质加热机501

封装设备501

GP3.5-J1型 高频介质预热设备503

L530/YN型 立式高频预热炉506

Y14型 塑料封装模具508

C45-4/YN型 12吨预成形机509

YCX-12型 12吨预成形机511

C45-1/YN型 20吨塑料封装机514

C45-2/YN型 30吨塑料封装机517

C45-50/YN型 50吨塑料封装机520

C45-3/YN型 83吨塑料封装机523

T41-1/ZE型 激光封装焊接机526

PFJ-2型 平行缝焊机527

烧结设备529

L4660I/YN型 氮氢链式烧结炉529

80S08型 气体保护链式炉531

L4611Ⅱ-D/RZQ型 卧式真空烧结炉534

其它设备537

L903型 框架加热器537

J933/YN型 气动压力机538

D732A型 半自动打印机540

Y70002/YF型 0.02m3高低温试验设备543

八、环境模拟可靠性试验设备类543

温度、压力试验设备543

Y70Ⅲ25/YF型 2.5L半导体低温试验设备545

Y70Ⅲ6/YF型 6L半导体低温试验设备548

Y70005/YF型 0.05m3高低温试验设备550

Y7001F/YF型 0.1m3低温试验设备552

Y7001D/YF型 0.1m3高低温试验设备554

Y7002H/YF型 0.2m3高低温试验设备557

YW7002F/YF型 0.2m3低温试验设备559

Y70200型 高低温试验设备561

Y70021B/YF型 自动温度变化试验设备564

Y6050-2型 高低温低压试验设备567

Y7120型 低气压试验设备569

力学试验设备571

Y512/ZF型 30kgf电动振动台571

D-10型 电动振动台574

Y515/ZF型45kgf电动振动台576

Y505-1/ZF型 5kg机械振动台579

Y53200/ZF型 3kg×5离心式恒加速度试验机582

Y5310ⅡⅡ/ZF型 105kg离心式恒加速度试验机585

Y512/ZF型 1kg单次冲击试验台588

潮湿、霉菌试验设备590

Y61320型 潮热试验设备590

Y7210型 交变湿热试验设备592

YW-1201型 气流式盐雾腐蚀试验箱595

MJ-910型 霉菌试验箱597

老化设备599

P82-43/ZM型 线性集成电路老化台599

P82-41/ZM型 数字电路老化台600

D42300A/ZK型 台式扫描电子显微镜604

九、理化分析仪器类604

DX-3型 台式扫描电子显微镜607

DXB 2-12型 电子显微镜609

XQF-2型 图象分析显微镜611

Y21/ZK型 红外电视显微镜613

GFU-201型 双光束原子吸收光谱仪616

3200型 原子吸收分光光度计618

7400型 红外分光光度计621

910型 双光束荧光分光光度计622

WFZ800-S型 双波长紫外可见光光度计623

XYS-2型 X射线衍射仪624

SP-2308型 气相色谱仪627

TA-1型 自动伏安仪628

883型 笔录极谱仪629

75-4B型 快速极谱仪630

ZCX-2型 柱层分析仪631

十、附录634

附录一 光学仪器634

附录二 光学高温计636

附录三 天平637

附录四 烘箱638

附录五 有关通用洁净工作台639

附录六 光度计640

附录七 色谱仪641

附录八 液相色谱仪643

附录九 大规模集成电路管芯制造工艺流程644

附录十 超大规模集成电路管芯制造工艺流程644

附录十一 有关文字符号对照表645

附录十二 研制、生产单位地址646

1985《集成电路专用设备手册》由于是年代较久的资料都绝版了,几乎不可能购买到实物。如果大家为了学习确实需要,可向博主求助其电子版PDF文件(由徐本祺主编 1985 北京:电子工业出版社 出版的版本) 。对合法合规的求助,我会当即受理并将下载地址发送给你。

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