《大规模集成电路制造与测试设备 译文集》

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目录1

χ射线光刻1

χ射线曝光装置11

Nikon接近式光刻机18

大规模集成电路中的光刻技术——紫外线曝光及电子束曝光26

带有定位微调装置的χ射线曝光系统43

电子束曝光系统的自动对准48

掩模对准装置56

一种新的干涉对准技术62

用新的干涉方法对准χ射线印刻掩模——实验结果65

原图形发生器——机械设计68

数显定位机械工作台76

用各种简单相位光栅实现多重成象81

用空间滤波法排除周期性图象上的非周期性结构94

光掩模修整用加工技术97

用于检查集成电路引线图形的自动光学装置102

光学和半导体元件的表面检验114

双焦平面显微镜118

显微物镜的简单双焦元件123

人物介绍——小资料130

集成电路与光学仪器——小资料142

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