《大规模集成电路制造与测试设备 译文集》求取 ⇩
| 作者 | 上海市光学仪器工业公司，上海光学仪器研究所 编者 |
|---|---|
| 出版 | 未查询到或未知 |
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| ISBN号 | 无 — 违规投诉 / 求助条款 |
| PDF编号 | 817321158（学习资料 勿作它用） |
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目录1
χ射线光刻1
χ射线曝光装置11
Nikon接近式光刻机18
大规模集成电路中的光刻技术——紫外线曝光及电子束曝光26
带有定位微调装置的χ射线曝光系统43
电子束曝光系统的自动对准48
掩模对准装置56
一种新的干涉对准技术62
用新的干涉方法对准χ射线印刻掩模——实验结果65
原图形发生器——机械设计68
数显定位机械工作台76
用各种简单相位光栅实现多重成象81
用空间滤波法排除周期性图象上的非周期性结构94
光掩模修整用加工技术97
用于检查集成电路引线图形的自动光学装置102
光学和半导体元件的表面检验114
双焦平面显微镜118
显微物镜的简单双焦元件123
人物介绍——小资料130
集成电路与光学仪器——小资料142
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- 1990 北京：科学出版社
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- 1970 上海科学技术情报研究所
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- 1984 北京：科学出版社
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- 程序设计语言与超大规模集成电路
- 1988 北京：科学出版社
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- 1972 北京：科学出版社
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- 超大规模集成电路设计 2 逻辑与测试
- 1991 北京：科学出版社
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