《大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 中》求取 ⇩

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大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 中 1984 PDF电子版封面

光刻1

参观84年美国半导体设备和材料展览会1

JK—1型接近式光刻机图形传递特性分析3

国外分步重复投影光刻机(DSW系统)动态15

1∶1扫描投影光刻机实验气浮导轨23

适用于微细投影曝光的自动调焦调平系统31

“环带校正板”在接近/接触式光刻机照明系统中的应用36

国外光刻机的发展趋势44

测试47

掩模质量和质量检测47

其他56

干法腐蚀终点检测综述56

集成电路专用设备ZPZ——1型自动芯片粘结机65

高速、多相、高精度、程控时钟发生器69

报道74

为集成电路光学专用设备的发展献计献策——研究讨论暨学术交流会情况74

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