《表1 不同n的太赫兹微结构器件参数》
式中:μ0为真空磁导率4π×10-7N/A2;薄膜厚度h为50nm;ρ为材料电阻率;f为频率。通过四电极范德堡法测得Au薄膜的电阻率为2.4×10-8Ω·m,Fe NHf薄膜的电阻率为1.03×10-7Ω·m。所以,采用式(7)计算得到太赫兹频率下薄膜的涡流损耗,其结果如表2所示。可以看出,相同频率下,Fe NHf薄膜的涡流损耗更小,所以Fe NHf薄膜微结构中表现出比Au薄膜微结构更高的Q值。
图表编号 | XD00188452900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2021.03.15 |
作者 | 赵磊、谈阳、章强、邢园园、赵云、张晓渝 |
绘制单位 | 苏州科技大学物理科学与技术学院江苏省微纳热流技术与能源应用重点实验室、苏州科技大学物理科学与技术学院江苏省微纳热流技术与能源应用重点实验室、苏州科技大学物理科学与技术学院江苏省微纳热流技术与能源应用重点实验室、苏州科技大学物理科学与技术学院江苏省微纳热流技术与能源应用重点实验室、苏州科技大学物理科学与技术学院江苏省微纳热流技术与能源应用重点实验室、苏州科技大学物理科学与技术学院江苏省微纳热流技术与能源应用重点实验室 |
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