《表1 不同氧压薄膜各元素含量》
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《沉积氧压对RuVO_2合金薄膜结构及MIT特性的影响研究》
如图3所示,(a)、(b)分别为不同沉积氧压下生长的RuVO2薄膜XPS全谱图和窄谱图.由图3可知,不同沉积氧压下制备的薄膜内均只含有Ru、V和O 3种元素.Ru3P3/2结合能为461.5 eV,对应价态为Ru4+.V 2p3/2结合能为515.1 eV,对应价态为V4+.表1给出基于XPS窄谱数据计算得到的不同氧压下沉积薄膜中各元素的含量.分析表明,随着氧压增加,薄膜中O元素的含量呈递增趋势.当氧压达到最高4.8 Pa时,O含量稍有下降,此时薄膜厚度为32 nm,不到其他薄膜厚度的一半,表明O含量的下降可能与薄膜沉积率的下降相关.随着氧压在2.4~4 Pa之间增加,V和Ru元素含量分别呈现递减和递增趋势,说明Ru和V在薄膜沉积过程中存在竞争关系,总体来说,沉积成膜过程中V元素更容易与O结合生成VO2.随着氧压增加,薄膜成分中阴阳离子百分比符合预期,逐步接近化学计量比2∶1.
图表编号 | XD00158683600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.05.05 |
作者 | 曹瑞琦、陆浩、陶欣、王歆茹、李派、卢寅梅、何云斌 |
绘制单位 | 湖北大学材料科学与工程学院超高真空表面分析实验室(湖北大学)、湖北大学材料科学与工程学院超高真空表面分析实验室(湖北大学)、湖北大学材料科学与工程学院超高真空表面分析实验室(湖北大学)、湖北大学材料科学与工程学院超高真空表面分析实验室(湖北大学)、湖北大学材料科学与工程学院超高真空表面分析实验室(湖北大学)、湖北大学材料科学与工程学院超高真空表面分析实验室(湖北大学)、湖北大学材料科学与工程学院超高真空表面分析实验室(湖北大学) |
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