《表2 不同缓冲层上溅射的AZO薄膜性能Table 2 Properties of AZO thin film in different buffer layers》
(2) 增加缓冲层。引入缓冲层可以改善AZO薄膜与衬底之间的晶格失配,使晶界减少,薄膜的缺陷减少,对光的散射和吸收减少,光的透射率增加。Y.Chen等[23]利用射频磁控溅射的方法分别在ZnO缓冲层及Si衬底上生长AZO薄膜,通过SEM图像分析可知,加入缓冲层后的AZO薄膜表面比较粗糙,而且具有较好的c轴优先生长取向。因为ZnO缓冲层释放了残余应力,AZO结晶质量也得到了提高,其晶粒尺寸(18.4nm)也大于无缓冲层的AZO的晶粒。其他研究者也对此问题做了研究,结果如表2所示。
图表编号 | XD0010556500 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.02.20 |
作者 | 张庆远、王丽军、王小平、张鹏飞、杨丽萍 |
绘制单位 | 上海理工大学理学院、上海理工大学理学院、上海理工大学理学院、上海理工大学理学院、上海理工大学理学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
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