《表7 高管机会警觉性、研发支出与企业绩效回归分析结果》

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《高管机会警觉性、研发支出与企业绩效》

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注:***、**和*分别表示在1%、5%和10%水平上显著。

（3） 高管机会警觉性、研发支出与企业绩效。本文将企业绩效作为因变量，研发支出作为自变量，高管机会警觉性作为调节变量，运用模型3对高管机会警觉性、研发支出与企业绩效三者之间关系进行回归分析，具体结果如表7所示。从表7分析结果可以看出，调整后的Adjust-R2值为0.217远远超过0.1，说明各研究变量与模型3之间的拟合度较高，本次回归分析结果具有较高的准确性。高管机会警觉性（EOV）与企业绩效（EPF）回归系数为0.169，并在5%水平上显著正相关，再次验证了假设1的正确性。研发支出（R&D）与企业绩效（EPF）回归系数为0.143，并在5%水平上显著正相关，再次验证了假设2的正确性。高管机会警觉性与研发支出的交乘项（EOV*R&D）与企业绩效（EPF）回归系数为0.095，并在5%水平上显著正相关，说明高管机会警觉性能够显著增强研发支出对企业绩效的影响作用，验证了假设3的正确性。企业高管具备高水平的机会警觉性会充分考虑市场信息，结合消费者需求和行业发展趋势促进产品优化升级或研发新产品，进而导致研发支出的显著增加，同时，对于研发方向的准确性和研发绩效的提升具有显著的正面影响。从控制变量来看，企业成长性（Growth）、商业信用（Tc）、现金持有量（Cash）与企业绩效（EPF）分别在5%、5%和1%水平上显著正相关。管理费用率（ADM）、资产负债率（Leverage）与企业绩效（EPF）分别在5%和1%水平上显著负相关。