《表1 SiO2/Si纳米薄膜厚度参数表》
根据图5可知,利用IPSO-NN算法模型进行反演计算,使迭代过程达到收敛状态所需的迭代次数较少。计算50 nm膜厚标准样片的折射率仅需200次迭代即可实现收敛,当计算厚度为997.7 nm膜厚标准样片的折射率时,IPSO-NN算法模型能够很好地克服大尺寸薄膜具有的周期性带来的影响,最终使计算结果收敛。且在入射波长为632.8nm时利用IPSO-NN算法模型计算的折射率相对误差小于1%,结果表明IPSO-NN算法模型能够对纳米薄膜折射率实现大范围、精确的计算。对SiO2/Si纳米薄膜厚度计算值进行分析,结果如表1所示。
图表编号 | XD00183297400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.03.15 |
作者 | 张馨尹、傅云霞、李强、吴俊杰、魏佳斯、孔明、管钰晴、谢张宁、雷李华 |
绘制单位 | 中国计量大学计量测试工程学院、上海市计量测试技术研究院、中国计量大学计量测试工程学院、上海市计量测试技术研究院、中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所计量与校准技术重点实验室、上海市计量测试技术研究院、上海市计量测试技术研究院、中国计量大学计量测试工程学院、中国计量大学计量测试工程学院、中国计量大学计量测试工程学院、中国计量大学计量测试工程学院、上海市计量测试技术研究院 |
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