《表2 不同编程脉冲数量条件下浮栅型P-FLASH器件阈值电压的漂移量》
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《90nm浮栅型P-FLASH器件总剂量电离辐射效应研究》
实验分别采用1个/10个编程脉冲对浮栅型P-FLASH器件进行编程操作,各选取3只(编程态1/编程态2)浮栅器件在同一辐照环境下进行总剂量辐照。辐照后编程态浮栅型P-FLASH器件转移特性曲线如图6所示,器件阈值电压的漂移量ΔVTP如表2所示。
图表编号 | XD0016614300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.08.20 |
作者 | 朱少立、汤偲愉、刘国柱、曹立超、洪根深、吴建伟、郑若成 |
绘制单位 | 中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所、中国电子科技集团公司第五十八研究所 |
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