《表4 PDE为20%,工作温度为233K时,器件在不同尺寸下的DCR和后脉冲概率统计分布》
2015年该公司Jiang等[18]统计分析并报道了其阵列DCR和后脉冲概率与像元直径的关系,报道结果如表4所示。可以看出,器件直径减小到16μm时可以大幅减小DCR,器件直径对后脉冲概率影响不大,像元面积与DCR和后脉冲概率并不总成正比。因此单元器件还有优化的余地,且在设计阵列器件时要权衡各项性能参数。
图表编号 | XD003388900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.11.25 |
作者 | 刘凯宝、杨晓红、何婷婷、王晖 |
绘制单位 | 中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室、中国科学院大学材料科学与光电技术学院、中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室、中国科学院大学材料科学与光电技术学院、中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室、中国科学院大学材料科学与光电技术学院、中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室、中国科学院大学材料科学与光电技术学院 |
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