《表6 ICP刻蚀GaN的均匀性测试结果》
提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式
№9刻蚀目的是为了测试4个小片之间的均匀性，共放置4个小片，均匀性测试数据见表6。刻蚀效果见图6。
| 图表编号 | XD00155492200 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2020.06.25 |
| 作者 | 李攀、卢宏 |
| 绘制单位 | 华中科技大学武汉光电国家研究中心、华中科技大学武汉光电国家研究中心 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
相关图表
- 《表1 样品中烟酸和烟酰胺均匀性测试分析结果》2020.09.15
- 《表1 支架疲劳后均匀性测试结果》2021.01.20
- 《表3 光刻胶B的光刻均匀性测试结果》2020.11.01
- 《表1 干膜光刻胶的均匀性测试结果》2020.11.01
- 《表3 硫分布均匀性测试结果》2020.12.10
- 《表1 优化后的刻蚀速率及均匀性》2020.04.25
- 《表2 ICP刻蚀不同时长时的孔径与刻蚀速率统计表》2020.05.01
- 《表1 ICP刻蚀的参数设置》2020.05.01
- 《表3 不同石墨化工艺样品均匀性测试结果》2020.08.28
- 《表6 刻蚀均一性测试结果》2020.04.01
- 《表2 均匀性检测测试数据的方差分析结果》2020.04.12
- 《表2 均匀性测试及计算结果表》2019.09.01
- 《表3 CVD-ZnS光学均匀性测试结果》2019.07.01
- 《表3 ICP-AES测定标准物质均匀性检验结果》2019.06.25
- 《表4 ICP-MS测定标准物质均匀性检验结果》2019.06.25
- 《表4 ICP刻蚀的实验参数》2019.07.01
- 《表1 ICP和RF功率对刻蚀速率的影响》2019.04.01
- 《表1 ICP刻蚀不同recipe的测试》2018.12.01
- 《表5 不同暗态均匀性程度LCM平坦度测试结果》2019.11.01
- 《表3 测试样品的均匀性分析结果》2019.12.10