《表3 光刻胶B的光刻均匀性测试结果》

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《用于PolyStrata技术的光刻工艺探索研究》

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使用台阶仪测量匀胶的均匀性时其测试结果如表3所示，从测试结果可以发现，匀胶基片中间位置最薄，左侧区域较厚。由于基片的对准采用手动校准方式，倒胶也采用手动方式，另外，该光刻胶的流平性有限，造成该次光刻试验基片的均匀性约在80.4%，均匀性相对较差。