《表1 干膜光刻胶的均匀性测试结果》
使用台阶仪测量光刻胶的均匀性,结果如表1所示,120μm厚的干膜光刻胶高度为120±2μm,均匀性98.6%。
图表编号 | XD00212630800 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.11.01 |
作者 | 汪郁东、赵广宏、陈青松、金小锋、张姗 |
绘制单位 | 北京遥测技术研究所、北京遥测技术研究所、北京遥测技术研究所、北京遥测技术研究所、北京遥测技术研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
使用台阶仪测量光刻胶的均匀性,结果如表1所示,120μm厚的干膜光刻胶高度为120±2μm,均匀性98.6%。
图表编号 | XD00212630800 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.11.01 |
作者 | 汪郁东、赵广宏、陈青松、金小锋、张姗 |
绘制单位 | 北京遥测技术研究所、北京遥测技术研究所、北京遥测技术研究所、北京遥测技术研究所、北京遥测技术研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |