《表1 干膜光刻胶的均匀性测试结果》

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《用于PolyStrata技术的光刻工艺探索研究》


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使用台阶仪测量光刻胶的均匀性,结果如表1所示,120μm厚的干膜光刻胶高度为120±2μm,均匀性98.6%。