《表2 不同基片的光刻胶厚度及均匀性》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《全自动涂胶设备及涂胶工艺的研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

表2为使用正性光刻胶，调节旋涂工艺参数得到的不同100 mm基片旋涂厚度均匀性典型统计结果，通过公式（3）计算可得，基片1、2、3片内均匀性为0.214%、0.217%、0.255%，片间均匀性为0.804%，满足用户的生产要求。