《表5 光刻胶分类：化工新材料在新型显示产业中的应用和发展研究》

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《化工新材料在新型显示产业中的应用和发展研究》

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光刻胶又名光致抗蚀剂、光阻材料。光刻胶经过不同波长的曝光光源进行曝光后，在曝光区域能够发生交联或光解，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化；经适当的溶剂处理溶去可溶性部分后，得到所需图像。根据溶解性的不同，光刻胶可分为正胶和负胶，正胶经曝光、显影、光刻后，被曝光的部分发生溶解，负胶则发生交联。根据用途的不同，光刻胶主要应用领域包括印刷电路板（PCB），显示面板和半导体集成电路。光刻胶分类详见表5。