《表2 卖空机制和企业创新的基准回归结果》

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《资本市场压力与企业策略性专利行为：卖空机制的视角》

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注：括号中为t值，***、**、*分别指相关系数在1%、5%、10%水平上显著。以下各表同。

本文用多时点双重差分模型研究放松卖空限制对企业创新的影响。基准回归结果见表2。第（1）、（2）列是对企业专利产出总量的影响。因变量为当年企业专利申请总数时，Short的回归系数为0.09，并在1%水平上显著为正，说明在卖空政策冲击下，专利申请总数增加9%。因变量为当年企业专利申请中最终被授权数量时，Short的回归系数不显著。从表2前两列可以看出，放松卖空限制对企业专利申请数量有显著促进作用，但对企业最终获得授权的专利数没有显著影响。本文进一步将专利种类细分，表2中第（3)—（8）列分别研究放松卖空限制对发明专利、实用新型专利、外观设计专利的申请数量和授权数量的影响。由第（3）、（4）列结果可知，放松卖空限制能使企业的发明专利申请数量增加13%，但这些发明专利申请中最终被授权的数量没有显著提高，部分申请的发明专利因为不成熟或者质量没有达到规定的要求而未获得授权。第（5）—(8）列中，Short的回归系数均显著为正，说明放松卖空限制对实用新型专利和外观设计专利的申请和授权都有显著促进。实用新型专利和外观设计专利的创造性和技术水平要求较发明专利低，而且审核流程相对简单、获得授权快。