《表2 非故意掺杂β-Ga2O3晶体的基本物理性质[10]》

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《宽禁带半导体氧化镓晶体和器件研究进展》


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除此之外,作者课题组详细表征了非故意掺杂晶体硬度、折射率、光学带隙、载流子迁移率、电阻率等参数,如表2所示[10]。基本物理性能的系统表征为后期材料应用奠定了基础。