《表6 回归模型各项方差分析(α为响应值)》
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《同时脱除吡虫啉和啶虫脒农残的虚拟模板表面分子印迹的制备和应用》
虚拟模板表面分子印迹制备优化的响应面分析结果见表4。采用Design-Expert对实验结果进行回归分析，方差分析的结果见表5及表6。
| 图表编号 | XD00138476200 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2020.03.15 |
| 作者 | 陈静钰、黄鑫、王力、王洪新 |
| 绘制单位 | 江南大学食品学院、国家功能食品工程技术研究中心(江南大学)、江南大学食品学院、国家功能食品工程技术研究中心(江南大学)、江南大学食品学院、国家功能食品工程技术研究中心(江南大学)、江南大学食品学院、国家功能食品工程技术研究中心(江南大学) |
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