《表1 三种物理气相沉积方法的比较》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《医用钛及钛合金表面改性技术的研究进展》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

物理气相沉积（PVD）技术是在真空条件下，利用热蒸发或辉光放电、弧光放电等物理过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能薄膜的技术。其沉积类型主要包括真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀膜，三种物理气相沉积方法的比较如表1所示。