《表2 200 ke V He+离子辐照薄膜表面前后粗糙度》

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《200 keV He~+辐照改性锐钛矿TiO_2薄膜初步研究》

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注：Rms为各位置高度与平均高度差的均方根。

图3为经能量为200 ke V的He+辐照前后锐钛矿Ti O2的形貌。由图3 a)和b)可知，经辐照后本身表面Ti“液滴”发生辐照生热现象后，有些“液滴”出现了熔化现象，即一部分Ti“液滴”因局部的辐照升温过高而熔化，辐照结束后重新冷凝成型。通过Igor Pro软件分析AFM图像表面粗糙度，结果如表2所示。