《表5 不同烘烤气氛下的基体在未高温储存时和经150°C×240 h储存后的气体含量》
(%)
由表5可知,基体的氢含量确实很高,密封后氢的逸出量为3%,经真空或氮气氛围烘烤后的结果没有明显差异,即使在高温储存后氢含量也都小于0.01%,可见真空或氮气氛围对分压的影响并不明显。在烘烤外壳数量有限的前提下,可以认为氮气氛围烘烤也有较好的除氢效果,对设备的要求也低,所以确定采用氮气氛围烘烤。
图表编号 | XD00100461400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.09.15 |
作者 | 刘思栋、申忠科、敖冬飞、樊正亮 |
绘制单位 | 南京电子器件研究所、南京电子器件研究所、南京电子器件研究所、南京电子器件研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |