《薄膜物理与技术》

绪论1

第一章薄膜的制备技术5

1-1蒸发5

1-2溅射镀膜19

1-3离子镀31

1-4离子束沉积39

1-5化学气相沉积44

1-6等离子体化学气相沉积58

1-7分子束外延67

1-8LB技术76

1-9Sol-Gel工艺83

第二章薄膜厚度和沉积速率的测定和监控94

2-1概述94

2-2触针法95

2-3秤量法96

2-4石英晶体振荡法96

2-5电阻法101

2-6光干涉法104

2-7椭圆偏振法108

第三章薄膜的形成机理111

3-1形成薄膜的起始条件111

3-2成核理论115

3-3薄膜的生长过程118

第四章薄膜的结构与缺陷130

4-1薄膜的非晶态结构130

4-2薄膜的亚稳态结构134

4-3薄膜中的织构136

4-4薄膜的晶粒组织和表面状态140

4-5薄膜中的缺陷150

第五章薄膜的性质159

5-1薄膜的力学性质159

5-2薄膜的电学性质171

5-3薄膜的光学性质182

5-4薄膜的磁学性质196

附表1元素蒸发镀膜特性214

附表2无机化合物直接蒸发镀膜特性216