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绪论1

第一章真空蒸镀和溅射的物理基础4

§1.1真空4

§1.2蒸发7

§1.3蒸发的热力学基础13

§1.4合金的蒸发16

§1.5化合物的蒸发18

§1.6蒸发的辐射分布20

§1.7蒸发粒子向衬底表面的入射分布24

§1.8溅射机理26

§1.9单原子靶的溅射29

§1.10合金及化合物靶的溅射31

§1.11反应性溅射33

第二章化学气相淀积原理37

§2.1CVD反应类型37

§2.2CVD反应参量42

§2.3CVD的薄膜生长过程45

§2.4等离子体CVD原理49

第三章薄膜的形成55

§3.1薄膜形成的大致过程55

§3.2附着56

§3.3核形成的界面能理论60

§3.4聚团理论65

§3.5薄膜形成的几率理论68

§3.6优先核形成73

§3.7核的形态73

§3.8薄膜初期生长的类型77

第四章薄膜的结构81

§4.1薄膜的结构81

§4.2结晶薄膜中的点缺陷82

§4.3结晶薄膜的位错86

§4.4结晶薄膜的其它缺陷91

§4.5非晶与异常结构薄膜92

第五章薄膜的力学性质96

§5.1薄膜的附着96

§5.2内应力105

§5.3弹性与内耗115

§5.4拉伸性质119

第六章金属薄膜的电导121

§6.1不连续薄膜121

§6.2连续薄膜132

第七章光学薄膜147

§7.1基础理论147

§7.2薄膜光学153

§7.3连续薄膜的光学性质160

§7.4岛状薄膜的光学性质169

§7.5非均质透明薄膜173

§7.6透明导电膜175

第八章半导体薄膜181

§8.1半导体的特征长度与半导体薄膜的特性181

§8.2多晶半导体薄膜190

§8.3非晶半导体薄膜196

第九章磁性薄膜198

§9.1薄膜的铁磁性198

§9.2薄膜的磁各向异性203

§9.3薄膜的磁畴与磁畴壁209

§9.4薄膜的磁化过程213

§9.5薄膜的磁共振217

第十章超导薄膜222

§10.1超导222

§10.2超导薄膜231

§10.3隧道效应234

§10.4约瑟夫逊效应241

附表245