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第一章 成膜技术1

1-1 概述1

1-2 真空蒸发镀膜1

1-3 溅射镀膜10

1-4 离子成膜法21

1-5 化学气相沉积25

1-6 分子束外延制膜法32

1-7 化学溶液镀膜法34

1-8 膜厚的测量与监控38

1-9 膜厚分布的计算46

习题与思考题52

第二章 薄膜的生长过程及结构53

2-1 薄膜生长过程及其分类53

2-2 成核理论57

2-3 溅射薄膜与外延薄膜的生长特性62

2-4 薄膜的结构与缺陷63

2-5 影响薄膜结构的因素66

2-6 非晶态薄膜67

习题与思考题69

第三章 薄膜的电性能70

3-1 连续金属薄膜的电导70

3-2 非连续金属薄膜的电导84

3-3 介质薄膜94

3-4 超导体薄膜105

习题与思考题110

第四章 薄膜的光学性能111

4-1 薄膜光学的基本理论111

4-2 薄膜光学性能的测量117

4-3 介质膜的反射率119

4-4 增透膜与反射膜124

4-5 薄膜波导与集成光学127

习题与思考题130

第五章 薄膜的机械性能和磁学性能131

5-1 薄膜的附着力131

5-2 薄膜的内应力136

5-3 薄膜的硬度143

5-4 薄膜的磁性能144

习题与思考题149

第六章 半导体薄膜150

6-1 半导体的光激发效应150

6-2 半导体的特征长度及其薄膜的特性153

6-3 单晶和非晶半导体薄膜160

6-4 半导体薄膜特性的测量法161

6-5 半导体薄膜的应用165

6-6 光刻与腐蚀技术168

习题与思考题177

第七章 薄膜的表面与界面179

7-1 表面界面特征与现象179

7-2 吸附机理与吸附膜的形成机理185

7-3 表面扩散与界面扩散191

7-4 界面电气现象194

7-5 界面接触效应197

7-6 薄膜中的电迁移现象203

习题与思考题204

主要参考文献206