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第一篇 材料表面薄膜技术概论2

第一章 薄膜制作技术2

第一节 物理气相沉积法2

二、溅射15

三、离子镀27

一、真空蒸镀34

第二节 化学气相沉积法34

一、热分解反应36

二、化学合成反应39

三、化学输运反应40

第三节 薄膜制作的新技术46

第一节 气体在固体表面的吸附62

第二章 薄膜形成的机理62

第二节 固体表面的结构和表面徙动68

一、晶体表面的结构68

二、表面徙动(surface migration)73

第三节 薄膜形成的类型及观察75

一、薄膜形成的三种类型75

二、薄膜的两种观察方法77

第四节 薄膜的形核理论86

一、薄膜形核的唯象理论87

二、薄膜形核的原子理论94

第五节 薄膜的核长大的理论113

一、原子作随机游动的模型114

二、二维气体扩散模型117

三、单层生长120

第六节 薄膜的结构124

一、组织结构124

二、晶体结构128

第七节 薄膜中的缺陷130

一、点缺陷130

二、位错133

三、堆垛层错135

四、晶界136

五、其它缺陷138

第三章 薄膜制作的相关技术142

第一节 膜厚的分类142

第二节 膜厚的测量方法144

一、形状膜厚dT的测量法145

二、质量膜厚dM的测量法150

三、物性膜厚dP的测量法156

第三节 基片材料161

一、金属162

二、玻璃162

三、陶瓷164

四、塑料165

第四节 基片的清洗167

一、化学清洗法167

二、超声波清洗法171

三、离子轰击和真空烘烤174

四、干燥法176

一、自持膜及其密度181

第一节 薄膜的弹性性质181

第二篇 薄膜的性质181

第四章 薄膜的力学性质及其测试181

二、薄膜的弹性常数183

三、薄膜的内摩擦187

第二节 附着190

一、附着现象190

二、附着力191

三、附着力的测定方法192

四、附着力的测定结果201

五、附着机理与增大附着力的方法203

第三节 内应力207

一、内应力的测定方法208

二、内应力的测定结果212

三、内应力的发生原因218

第四节 抗拉特性223

一、抗拉特性的测定方法223

二、抗拉特性的测定结果226

第五章 薄膜的电学性质与电迁移现象232

第一节 非连续性薄膜233

一、一般特征233

二、热电子发射过程236

三、激活隧道过程240

四、热电子发射电流和激活隧道电流的比较245

第二节 连续薄膜248

一、一般特性248

五、在非连续薄膜中,电子的传导路径248

二、连续薄膜内部的电子输运--桑德海默(Sondheimer)理论251

三、自由电子论和玻尔兹曼输运方程252

四、利用玻尔兹曼方程计算薄膜的电导率253

五、有磁场存在时的电子输运261

六、考虑晶界的电子散射理论--Mayadas-Shatzkes理论264

七、量子尺寸效应和电传导268

八、温差电动势272

第三节 金属薄膜中的电迁移现象275

一、电迁移现象275

二、电迁移现象的解释276

三、电迁移的测试277

一、自发磁化282

第六章 薄膜的磁学性质282

第一节 自发磁化282

二、薄膜的自发磁化285

第二节 薄膜的磁各向异性289

一、形状各向异性289

二、多晶坡莫合金薄膜面内感应单轴磁各向异性290

三、多晶磁性薄膜的垂直磁各向异性297

第三节 薄膜的磁畴和畴壁300

一、磁畴和畴壁的观察方法301

二、薄膜的畴壁304

三、薄膜的磁畴311

四、具有正垂直磁各向异性薄膜的磁畴构造313

五、条纹磁畴和旋转各向异性318

六、泡磁畴321

第四节 薄膜的磁化过程327

一、静态磁化过程327

二、坡莫合金薄膜的高速转换339

三、畴壁运动345

四、磁泡的动态特性352

第五节 磁共振356

一、铁磁共振357

二、自旋波共振359

第七章 薄膜的光学性质367

第一节 基础知识368

一、斯内尔定律和光学常数368

二、费马原理369

三、菲涅耳公式370

四、吸收体的反射372

五、薄膜的反射和透射374

第二节 薄膜光学常数的测量方法378

一、偏光分析法378

二、阿贝勒(F.Abelès)方法381

三、迈勒(D.Malè)方法383

第三节 光学性质的测量结果385

一、透明连续薄膜385

二、吸收薄膜386

第四节 金属薄膜中的等离子体共振391

一、光学常数与特性常数391

三、特鲁德方程式与复介电常数392

二、金属内的电子等离子体振荡392

四、表面等离子体393

五、金属薄膜中的光、等离子体共振394

第五节 特殊薄膜398

一、非均质薄膜398

二、岛状薄膜401

三、多层膜的性质406

第八章 半导体薄膜的性质及特性测试414

第一节 半导体的特征长度与薄膜特性415

一、少数载流子扩散长度415

二、表面空间电荷层420

三、平均自由程424

四、德拜长度426

五、光吸收系数的倒数427

六、其他特征长度428

第二节 单晶薄膜和非晶质薄膜430

第三节 半导体薄膜的特性测试方法432

一、电阻的测定432

二、通过测定电容-电压确定杂质浓度的分布433

三、范德波伍(Van der pauw)法测定霍尔效应438

四、步进式腐蚀和电阻,霍尔效应测定的组合440

五、光学测定法441

第九章 超导薄膜446

第一节 超导体的一般性质和薄膜化效应447

一、超导体的一般性质447

二、超导薄膜的性质453

三、超导薄膜的制作458

第二节 超导结及其制作463

一、超导结463

二、约瑟夫逊效应470

三、超导结的制作477

第三篇 薄膜的应用487

第十章 薄膜在摩擦学领域中的应用487

第一节 低剪切强度的薄膜在减摩和耐磨方面的应用487

第二节 硬质膜--耐磨保护镀层500

第十一章 装饰膜和耐蚀膜515

第一节 表面装饰膜的应用515

第二节 薄膜在耐蚀保护上的应用520

第十二章 导电薄膜和磁性薄膜的应用523

第一节 导电薄膜的应用523

一、薄膜电阻523

二、薄膜电阻的性能试验和实例529

三、透明导电膜532

四、集成电路(IC)配线540

五、其他应用544

第二节 磁性薄膜的应用557

一、磁记录557

二、磁性传感器567

三、光磁存储器573

四、其他应用580

第一节 薄膜光路元件588

第十三章 薄膜在光学上的应用588

一、光波导589

二、平面光波导光学元件591

第二节 光功能元件602

一、光调制器602

二、光开关607

三、光存储器件609

第三节 薄膜激光器612

一、薄膜激光器的特征613

二、薄膜激光器的结构和材料617

三、薄膜激光器的种类617

一、摄象器件626

第一节 半导体薄膜的应用626

第十四章 半导体薄膜和超导薄膜的应用626

二、电子摄象635

三、太阳能电池636

四、薄膜晶体管645

五、场致发光651

六、阴极发光655

七、电子发射660

八、薄膜传感元件665

第二节 超导薄膜的应用673

一、超导薄膜开关元件674

二、超导薄膜存储元件681

三、超导量子干涉仪684

四、电压基准692

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