《薄膜的基本技术》求取 ⇩

1.开头语1

2.制作薄膜所必需的有关真空设备的基础知识3

2.1　引言3

2.2　典型的真空设备4

2.3　真空设备操作的基本知识5

2.4　真空泵的原理7

2.5　气体压力的测量12

3.真空蒸镀法18

3.1　引言18

3.2　基本公式19

A.气体分子的算术平均速度19

B.气体的密度与压力20

C.气体分子的流量21

D.平均自由行程22

E.附着的分布23

3.3蒸发材料的基本加热装置——蒸发源25

A.电阻加热法25

B.电子轰击法31

3.4　蒸镀薄膜的具体例子33

3.5 合金、化合物等物质的蒸镀方法35

3.5.1 合金的蒸镀——闪蒸蒸镀法和双蒸发源蒸镀法35

3.5.2 化合物的蒸镀方法38

4.溅射法44

4.1引言44

4.2 溅射的基本理论44

A.辉光放电44

B.溅射率46

c.溅射原子的状态48

4.3 基本溅射装置——两极直流溅射法50

4.4 高频溅射法53

4.5 特殊的溅射法57

4.5.1 反应溅射法57

4.5.2 离子镀膜法59

4.5.3 用溅射法制作合金薄膜60

5.膜厚测量方法62

5.1引言62

5.2 膜厚是什么62

5.3 膜厚的分类67

5.4 测量方法的分类71

A.形状膜厚测量方法72

B.质量膜厚测量方法73

C.物性膜厚测量方法74

5.5 多光束干涉法(MBI法)75

5.6 石英晶体振荡法(QCO法)84

5.7 电阻法90

5.8 其他的膜厚测量方法98

6.其他有关的技术110

6.1引言110

6.2 基片的清洗方法110

6.3 单晶薄膜的制作技术113

6.4 非晶质薄膜的制作技术117

6.5 电极的蒸镀121

6.6 薄膜附着力的测量124

7. 结束语132

附录1.气体分子运动论的基础知识133

附录2.金属薄膜的导电性139

参考文献145

索引146