《薄膜制备技术及其应用》求取 ⇩

目录1

第一章 薄膜材料1

§1.1 薄膜材料的特性1

§1.2 薄膜制备方法的分类及特点3

§1.3 薄膜制备方法和制备条件的选择6

§1.4 薄膜的物性测量方法9

第二章 真空蒸镀方法13

§2.1 蒸发过程13

§2.2 成核过程21

§2.3 薄膜的形成30

§2.4 蒸发源32

§2.5 特殊的蒸发技术39

§2.6 真空蒸镀装置49

§2.7 合金和化合物薄膜的真空蒸镀53

§3.1 溅射率56

第三章 溅射沉积方法56

§3.2 溅射机理68

§3.3 溅射粒子75

§3.4 放电特性79

§3.5 溅射装置87

§3.6 溅射法的特点95

§3.7 氧化物薄膜的制备100

§3.8 氮化物、碳化物及硅化物薄膜的制备105

§3.9 非晶薄膜和其他薄膜的制备108

第四章 化学气相沉积方法（CVD方法）112

§4.1 基本原理112

§4.2 CVD装置118

§4.3 薄膜材料的CVD生长123

第五章 等离子体化学气相沉积（PCVD）方法和等离子132

体氧化方法132

§5.1 PCVD方法的基本原理132

§5.2 PCVD装置137

§5.3 用PCVD方法制备的薄膜材料142

§5.4 等离子体氧化148

§5.5 等离子体氧化装置151

§5.6 等离子体氧化膜154

第六章 电解镀和无电解镀方法157

§6.1 电解镀的方法157

§6.2 无电解镀方法161

§6.3 阳极氧化方法163

第七章 膜厚检测方法167

§7.1 天平法167

§7.2 电学方法171

§7.3 光学方法175

§7.4 辐射吸收法和辐射发射法181

第八章 薄膜材料在电磁学领域中的应用183

§8.1 导电薄膜的应用183

§8.2 半导体薄膜的应用193

§8.3 介电体薄膜的应用217

§8.4 超导薄膜的应用221

§8.5 磁性薄膜的应用224

第九章 薄膜材料在光学和机械领域中的应用229

§9.1 光学膜229

§9.2 薄膜光波导元件234

§9.3 光功能元件241

§9.4 表面保护膜和润滑膜249

附录一 薄膜材料的种类和用途254

附录二 薄膜的制备方法和特点255

附录三 化合物薄膜的种类和制备方法256

附录四 耐热材料262

附录五 固体及液体元素的熔解和蒸发数据264

附录六 化合物的蒸气压、熔点和蒸气成分274

附录七 元素周期表280

主要参考书281