《表3 方差分析：水浸法削减大米粉中镉的工艺优化及对其品质影响》

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《水浸法削减大米粉中镉的工艺优化及对其品质影响》

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对回归方程进行方差分析，结果如表3所示。回归模型P值为0.030 1，小于0.05，说明此回归方程显著，失拟项P值为0.716 2，大于0.05，不显著，说明所建立的二次回归模型成立，与实际情况拟合较好，可用此模型来分析和预测水浸工艺条件。由表3可知，相关系数R2较高，为0.852 6，表明该回归方程适用于水浸法去除大米粉中镉的理论预测。A、B2对大米粉中镉去除率有显著影响（P<0.05），A2对大米粉中镉去除率有极显著影响（P<0.01）。影响大米粉中镉去除率的主次因素依次为A>B>C，即水浸温度>料液比>水浸时间。