《表1 不同H2/SiH4气流量条件下制得硅膜的平均晶粒尺寸和晶化度》

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《不同沉积速率下微晶硅薄膜的生长行为研究》

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鉴于所得薄膜均为晶体结构这一研究结果，本文又采用XRD对薄膜结构进行了物相分析（如图3所示），并通过对XRD图谱进行分析计算[7]得到不同沉积条件制得薄膜的整体晶化率和平均晶粒尺寸，结果如表1所示。