《表2 不同H2/SiH4气流量条件下制得硅膜的表面粗糙度》
薄膜生长表面的状态决定了其生长过程[10],而沉积速率对生长表面状态有着直接影响。采用AFM观察了不同沉积速率条件下制得薄膜的表面形貌,得到三维照片及其粗糙度值分别如图5和表2所示。
图表编号 | XD0032007600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.02.28 |
作者 | 鲁媛媛、李贺军、丁旭 |
绘制单位 | 西安航空学院材料工程学院新材料研究所、西北工业大学凝固技术国家重点实验室、西安航空学院材料工程学院新材料研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |