《表2 不同H2/SiH4气流量条件下制得硅膜的表面粗糙度》

《表2 不同H2/SiH4气流量条件下制得硅膜的表面粗糙度》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《不同沉积速率下微晶硅薄膜的生长行为研究》


  1. 获取 高清版本忘记账户?点击这里登录
  1. 下载图表忘记账户?点击这里登录

薄膜生长表面的状态决定了其生长过程[10],而沉积速率对生长表面状态有着直接影响。采用AFM观察了不同沉积速率条件下制得薄膜的表面形貌,得到三维照片及其粗糙度值分别如图5和表2所示。