《表1 等离子体刻蚀工艺参数Tab.1 Process parameters of plasma etching》

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《刻蚀对高碳马氏体不锈钢表面等离子渗铬层结合强度的影响》

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首先，利用MPCVD对8Cr17不锈钢表面分别进行氢气和氢气+氩气刻蚀处理。所使用的MPCVD装置主要由微波产生系统、微波传导与转换系统、谐振系统和真空系统等组成[16]。微波在谐振腔中产生的强电场使得反应气体发生离化形成等离子体。微波功率为15 kW，频率为2.45 GHz，选择四种刻蚀工艺，其工艺参数见表1。