《表1 等离子体设备参数Tab.1 Parameters of plasma equipment》

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《射频等离子体诱导合成MoO_2-Mo_2N复合催化剂及其在合成气制低碳醇中的应用》

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将40mL粒径小于100目的TPR-Mo2N粉末在80℃真空干燥12h，冷却后作为反应原料加入等离子体加料箱，调节等离子体设备参数到运行值，通过载气输送反应原料到等离子体发生器进行剧烈反应，反应产物经等离子体腔体冷却后沉积到反应箱中。等离子体设备的具体参数见表1，所得产物标记为MoO2-Mo2N-pla。作为参比，将40 mL粒径小于100目的MoO2粉末在相同条件下进行处理，所得产物记为MoO2-pla。