《表1 某些型号的光学显微镜、Fizeau型激光干涉仪、扫描电镜、原子力显微镜的有关参数对比》
本文将通过实验的方法,提出一种基于光干涉原理,在实际检测工作中较为简便可行的检测方法,即联合利用Fizeau型激光干涉仪与AFM来检测与表征处于晶体工作面,且肉眼不可见的微小损伤。通过检测来确定微型损伤的具体位置、定量表征损伤区域的规模,并评估该损伤对晶体正常工作状态的可能性影响,从而为同步辐射用晶体的表面质量检测与表征提供一种有效可行的简便方法。表1为某些型号的光学显微镜、Fizeau型激光干涉仪、SEM、AFM的有关参数对比。对于晶体表面微损伤的定位而言,光学显微镜的最大单次测量视场为毫米量级,视野较窄,很可能需要多次测量才能定位损伤的位置,具有费时费力的缺点;而Fizeau型激光干涉仪的单次测量视场可达100 mm以上,一般仅需1~2次即可探知损伤的位置,非常简单快捷。对于微损伤的表征而言,主要从测试环境与制样两方面对比SEM与AFM的实验要求,可发现后者的操作更为简便。
图表编号 | XD0025399100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.07.10 |
作者 | 金利民、宋丽、祝万钱、罗红心、徐中民、张增艳 |
绘制单位 | 中国科学院上海应用物理研究所、中国科学院上海应用物理研究所、中国科学院上海应用物理研究所、中国科学院上海应用物理研究所、中国科学院上海应用物理研究所、中国科学院上海应用物理研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |