《表2 硅晶体表面微凸起的定量测量值Table 2 Quantitative measurements of micro-protrusions on the surface of silicon》下

《表2 硅晶体表面微凸起的定量测量值Table 2 Quantitative measurements of micro-protrusions on the surface of silicon》下   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《基于干涉法的晶体表面微损伤的定位与表征》


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如图5所示,通过AFM获取晶体表面微小损伤局部区域的形貌特征。从图5可以发现,该损伤实际是微小的凸起。根据所能观测到的损伤状态,选择该凸起走向上4处损伤特征较为明显的位置,即图5中的A、B、C、D,并分别测量各位置的宽度和高度,测量结果列于表2。该凸起特征的宽度W与高度H分别位于[1.47μm,2.73μm]与[36.41 nm,62.82 nm]这两个区间,即宽度比高度大许多,两者之比的均值约为46.52。为了进一步评估该凸起对晶体光学性能的影响,需要对其进行影响性评估。