《表2 不同刻蚀温度下的失重率Tab.2 The weight loss rate at different etching temperatures》

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《碱刻蚀制备金字塔条件对多晶黑硅性能的影响》

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实验中发现，温度对碱刻蚀的影响也很大，如果温度控制不好，刻蚀后的硅片就达不到要求，进而影响到最终制备的黑硅。在考察最佳刻蚀温度的实验中，工艺条件为:碱刻蚀溶液200m L，刻蚀时间240s，添加剂A为5m L·L-1，氢氧化钾溶液浓度67.2g·L-1，刻蚀温度70~90℃，重复3次。由表2可以看出，刻蚀前后硅片的失重率会随着温度的升高而增加，这是因为氢氧化钾在60~100℃之间有特别强的腐蚀性，并且随着温度的升高，其腐蚀性会越来越强，温度达到80℃时，失重率已经达到要求，再升高温度失重率会过高，对实验本身会产生不利的影响。