《表2 不同时间退火情况对比Tab.2 Comparison of annealing conditions at different times》
在确定退火温度对金属-半导体接触的影响后,进行不同时间的退火实验,用来讨论退火时间的长短对Ni/SiC接触效果产生的影响。通过观察表2中的数据发现,即使延长了退火时间,对欧姆接触的效果影响不大。但是退火时间不够的情况下,即使温度达到形成欧姆接触的条件,Ni/SiC接触呈现的仍会是肖特基接触。
图表编号 | XD0021736600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.06.25 |
作者 | 韩兴宇、石云波、孙亚楠 |
绘制单位 | 中北大学电子测试技术重点实验室、中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室、中北大学电子测试技术重点实验室、中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室、中北大学电子测试技术重点实验室、中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
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