《表1 实验组和参照组工艺参数设定Tab.1 Process parameter setting of experimental group and reference group》

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《板式PECVD镀膜均匀性及颜色优化研究》

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A、B组试验设备的区别只限于最后一组特气管路，其结构和流量均不同。基于各因素对氮化硅镀膜的影响，两组实验工艺参数各设定如表1。脉冲开关时间（8，17）（8，18） ，即两个微波脉冲其中一个打开8 ms、关闭17 ms，另一个打开8 ms、关闭18ms。SINA I设备采用8根管即8组特气管路设备，A组NH3流量8组管路都相同为500sccm，即500×8，SiH4流量前4组管路相同为220sccm，后4组管路相同为125sccm，即220×4+125×4；B组NH3流量前7组管路相同为500sccm，最后一组管路中间5小管路初始值均为100sccm，两侧补偿管路流量初始值为0，即500×7+100×5+0×2，SiH4流量前4组管路相同为220sccm，其余3组相同为125sccm，最后一组中间5小管路初始值均为20sccm，两侧补偿流量为0，即220×4+125×3+20×5+0×2。