《表1 1区域C、Si分析结果》
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将坩埚浸酸清洗干净后,在底部随机选择一个粗糙结瘤部位进行定性分析,发现Pt与Si两元素也有较好的对应,见图7。用金刚砂棒将表面层打磨掉约0.15mm,露出新鲜的金属面,见图8。采用微区能谱仪在相同加速电压下对微区的C、Si含量进行定性分析,结果见表1。可以看出,坩埚底面的C、Si含量经打磨后仍然较高。
图表编号 | XD00173559700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.06.20 |
作者 | 袁军平、陈绍兴、黄宇亨、卢焕洵 |
绘制单位 | 广州番禺职业技术学院珠宝学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |