《表6 不同电流密度对镀层XRD衍射峰特征的影响》

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《无氰镀银镀层的XRD研究》

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系列实验表明，ZHL工艺可以通过控制搅拌方式在较大的电流密度区间获得光亮镀层。图6给出了在40°C下，不同的电流密度制备样品的XRD图样[7]。对每个衍射峰的高斯拟合结果汇总于表6。图6（d）为磁子搅拌，其外观发白，光泽度差。其余样品均外观光亮。对比这些光亮的样品可以发现（111）衍射的晶粒尺寸在16~20 nm，彼此之间并无明显的差异。其余各面的晶粒较小，彼此之间也无明显差异。说明在0.4~2.2 A/dm2范围内，光亮镀层的结晶均细腻圆润，且彼此之间差异小。对于光泽度差的样品，其晶粒的尺寸明显增加。