《表1 银镀层衍射峰的高斯拟合的特征参数》

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《镀银铜棒的制备与表面形貌的研究》

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在0.10A/dm2、40 min条件下所得样品的XRD图见图4。借助高斯函数对本实验的4个衍射峰进行拟合，具体参数总结见表1。可看出，衍射峰值的面积均大于标准值，说明镀层的致密度高于银的块体材料。（111）衍射峰最强，（220）的积分面积为（111）衍射峰的98%。而标准谱图中（220）仅为（111）的22.2%。样品中的（311）衍射峰的面积也高于标准谱图中（311）衍射峰面积。这些高指数面的衍射峰占有较大的比例，说明该工艺下镀层的表面能较高。此外，本文晶粒取向是由XRD图谱得出来的[13]。