《表4 在推荐的工艺条件下镀银层的衍射峰的高斯拟合参数》

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《无氰镀银镀层的XRD研究》

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图3给出了在推荐的工作条件下（38~41°C，0.8~1.6 A/dm2）具有代表性的样品的XRD衍射图样。利用简单的高斯函数，对测量范围内的4个衍射峰做了数据拟合，表4给出了所获得的拟合参数。其中测量获得的衍射峰位均略大于标准值，再次说明镀层的致密度略高于块体银。除此之外，衍射峰的积分面积也与标准的块体材料不尽相同。由表4数据可知（111）面的衍射峰最强。此外，含较高指数面的（220）峰为次强，其积分面积为（111）面的45%。但在标准谱图中（220）晶面衍射峰面积仅为（111）的1/4。高指数面的衍射峰面积占比较大，说明本工艺镀层的表面能较高。表面能高会对样品表面的后处理带来更高的要求，但高能表面也会在表面增强拉曼光谱的增强基底、抗菌材料等方面具有潜在的应用价值。此外，样品（311）的衍射峰面积也略高于（200）晶面。