《表4 蒙脱石参与木质素腐殖化过程XRD特征衍射峰的晶面间距》

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《两种黏土矿物催化木质素腐殖化过程机理》

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图6为蒙脱石参与木质素腐殖化过程的XRD谱，蒙脱石参与木质素腐殖化过程XRD特征衍射峰的晶面间距列于表4．由图6和表4可见：蒙脱石原样品在2θ=5.9°，19.8°，22.0°，26.6°，36.1°处均出现了强衍射峰，在M-110-CK2和M-110-CK3两种处理下，因缺失微生物或木质素，未发生腐殖化过程，蒙脱石在2θ=6.5°～6.7°，19.9°，22.0°～22.1°，26.7°，36.2°处出现强衍射峰，其中，在2θ=6.2°附近为蒙脱石特征衍射峰，在2θ=19.8°～19.9°，26.7°处归属于云母特征峰，2θ=22.0°～22.1°处为钙长石衍射峰．与原样品相比，M-110-CK2和M-110-CK3处理下的蒙脱石在低波处发生偏移．蒙脱石在参与木质素转化后，其在低波处（5.9°～6.7°）的衍射峰消失，在2θ=18.1°处的衍射峰出现，在19.9°～20.0°，22.1°～22.2°，26.8°，36.2°～36.6°处的衍射峰均被保留．因此，蒙脱石参与木质素转化后的结构发生了改变，表明蒙脱石的特征衍射峰消失，与SEM结果一致．