《表1 高岭石参与木质素腐殖化过程FTIR光谱主要吸收峰的相对强度》

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高岭石参与木质素腐殖化过程FTIR光谱主要吸附峰的相对强度列于表1.由表1可见,随着培养时间的延长,高岭石表面水分子对称伸缩振动频率(ν1型)先降低再大幅度升高,水分子弯曲振动频率(ν2型)逐渐增加.与培养10,30,60d的结果相比,K-110的Si—O伸展振动及Si—O—Si弯曲振动频率均下降.高岭石比蒙脱石的比表面积(SSA)更小,但蒙脱石较大比例的SSA为内表面积,由于空间位阻,菌株无法嵌入蒙脱石层间[13],因此高岭石对复合菌株的亲和力更大,在参与木质素微生物的转化过程中,高岭石使表面水化层多点形成氢键,增加了对菌体碳水化合物的固定[17],使缔合—OH的伸缩振动(ν1和ν2型)增强.在该过程中,Al—OH的边缘及基底八面体O发生脱羟作用[18],产生更多自由基,使四面体片和八面体片变形并产生大量断键,导致Si—O,Si—O—Al和Si—O—Si的振动频率弱化,晶体结构趋于无序化.